会社沿革

会社沿革

1978年 9月 設立
1986年 ハードディスク関連装置事業への参入
1989年 ハードディスク研削/研磨/洗浄/乾燥自動化ライン 1号機リリース
1990年 ハードディスクサブストレート自動外観検査装置 (CCD方式)リリース
1992年 ハードディスク一貫生産ライン1号機リリース
(メッキラッキング・アンラッキング装置開発)
1993年 ハードディスク用旋盤1号機リリース
1994年 レーザー方式ディスク表面検査装置1号機リリース SSIシリーズ
1995年 スーパーポリッシュ一貫ライン開発完了液晶関連装置事業参入
液晶カセット洗浄機リリース
1996年 ディスク板厚選別装置1号機リリース
1997年 System Seiko(Malaysia)Sdn.Bhd. 設立
ディスク平坦度検査装置1号機リリース:SFIシリーズ
ディスク表面欠陥解析装置1号機リリース:SDAシリーズ(検出感度5μm)
1998年 スーパーグラインダー、ウルトラポリッシャーリリース
ディスク表面検査ヘッドV8.0(検出感度1μm)リリース
1999年 System Seiko(Malaysia)Sdn.Bhd. Kulim地区(現事務所)へ移転
ガラス用ハードディスク精密研磨自動化ラインリリース(4way方式):13B-10P
精密洗浄機リリース
ディスク表面検査ヘッドV8.0A(検出感度300nm) リリース
2000年 ガラス用ハードディスクチャンファー研削・研磨装置リリース
2001年 半導体ウェーハ用洗浄機リリース
化合物・酸化物ウェーハ用薄物両面研磨機リリース:PH1500/1800シリーズ
ガラスディスク表面検査ヘッド Ver.9.0リリース(検出感度1μm)リリース
2005年 ディスク表面検査装置SSI-641リリース
信号処理システムリリース(Windows対応)
2010年 ディスク表面検査装置SSI-642リリース
2011年 信号処理システムリリース(デジタル信号化処理対応)
ディスク表面検査ヘッド V820(検出感度80nm)リリース
2013年 角型基板対応異物検査・解析装置 RSIシリーズ リリース
2014年 ケメット・ジャパン株式会社に株式を譲渡
ケメット・ジャパングループの一員となる
2017年 大型基盤用平面検査装置LSIシリーズリリース
検査光学ヘッド Ver.1000(検出感度50nm)実験機リリース
シックネスソーター装置リリース
2018年 創業40周年を迎える
光走査装置、光走査方法および表面検査装置(特許化)
ウェハーワックス貼付装置リリース
低加圧機能付片面研磨装置リリース
2019年 ケメット・ジャパン株式会社 MAT事業部より、装置の制作・メンテナンスを委託される
洗浄機能付全自動CMP装置リリース
2020年 ウェハー洗浄機リリース